一．EDI超純水設備簡(jiǎn)介

??EDI超純水處理設備即電去離子系統，電滲析膜分離技術(shù)與離子交換技術(shù)有機地結合起來(lái)的一種新的制備超純水（高純水）的技術(shù)，它利用電滲析過(guò)程中的極化現象對填充在淡水室中的離子交換樹(shù)脂進(jìn)行電化學(xué)再生。該設備主要是在直流電場(chǎng)的作用下，通過(guò)隔板的水中電介質(zhì)離子發(fā)生定向移動(dòng)，利用交換膜對離子的選擇透過(guò)作用來(lái)對水質(zhì)進(jìn)行提純。

二．EDI的基本工作原理

??EDI是一種將離子交換技術(shù)、離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)（電滲析技術(shù)）相結合的純水制造技術(shù)。該技術(shù)利用離子交換能深度脫鹽來(lái)克服電滲析極化而脫鹽不徹底，又利用電滲析極化而發(fā)生水電離產(chǎn)生H+和OH-，這些離子對離子交換樹(shù)脂進(jìn)行連續再生，以使離子交換樹(shù)脂保持最佳狀態(tài)。

??EDI膜堆主要由交替排列的陽(yáng)離子交換膜、濃水室、陰離子交換膜、淡水室和正、負電極組成。離子交換樹(shù)脂充夾在陰陽(yáng)離子交換膜之間形成單個(gè)處理單元，并構成淡水室，單元與單元之間用網(wǎng)狀物隔開(kāi)，形成濃水室。在直流電場(chǎng)的作用下，淡水室中離子交換樹(shù)脂中的陽(yáng)離子和陰離子沿樹(shù)脂和膜構成的通道分別向負極和正極方向遷移，陽(yáng)離子透過(guò)陽(yáng)離子交換膜，陰離子透過(guò)陰離子交換膜，分別進(jìn)入濃水室形成濃水。同時(shí)EDI進(jìn)水中的陽(yáng)離子和陰離子跟離子交換樹(shù)脂中的氫離子和氫氧根離子交換，形成超純水（高純水）。超極限電流使水電解產(chǎn)生的大量氫離子和氫氧根離子對離子交換樹(shù)脂進(jìn)行連續的再生。傳統的離子交換，離子交換樹(shù)脂飽和后需要化學(xué)間歇再生。而EDI膜堆中的樹(shù)脂通過(guò)水的電解連續再生，工作是連續的，不需要酸堿化學(xué)再生。

??EDI裝置將給水分成三股獨立的水流：純水、濃水、和極水。純水（90%-95%）為最終得到水，濃水（5%-10%）可以再循環(huán)處理，極水（1%）排放掉。

三．EDI裝置的特點(diǎn)

??EDI裝置不需要化學(xué)再生，可連續運行，進(jìn)而不需要傳統水處理工藝的混合離子交換設備再生所需的酸堿液，以及再生所排放的廢水。其主要特點(diǎn)如下：

（1）連續運行，產(chǎn)品水水質(zhì)穩定

（2）容易實(shí)現全自動(dòng)控制

（3）無(wú)須用酸堿再生

（4）不會(huì )因再生而停機，節省了再生用水及再生污水處理設施

（5）產(chǎn)水率高（可達95%）。

EDI裝置屬于精處理水系統，一般多與反滲透（RO）配合使用，組成預處理、反滲透、EDI裝置的超純水處理系統，取代了傳統水處理工藝的混合離子交換設備。EDI裝置進(jìn)水要求為電阻率為0.025-0.5MΩ·cm，反滲透裝置完全可以滿(mǎn)足要求。EDI裝置可生產(chǎn)電阻率高達15MΩ·cm以上的超純水。

??對于高純水系統，無(wú)論從產(chǎn)水質(zhì)量、性能和操作等方面考慮，還是從運行費用和環(huán)保等方面考慮，反滲透+EDI工藝都是一個(gè)理想的選擇。

四．EDI設備各種技術(shù)工藝的優(yōu)缺點(diǎn)

目前，成套EDI超純水設備制備超純水技術(shù)大約有三種，三種工藝各有各的優(yōu)點(diǎn)，也各有各的缺點(diǎn)，第一種是傳統的利用離子置換樹(shù)脂制備超純水的工藝，這種工藝優(yōu)點(diǎn)較明顯，設備運行初期的資金投入少，并且設備體積較小，但樹(shù)脂工作時(shí)間長(cháng)了需要再生，在再生階段會(huì )造成大量的酸堿浪費以及污染，所以比較不環(huán)保。

現如今，超純水系統工藝主要有三大類(lèi)，其他的工藝基本上都是在這三大類(lèi)的基礎上進(jìn)行不同結合搭配衍生出來(lái)的?，F在將這三種工藝的優(yōu)缺點(diǎn)列于此。

1、EDI電子專(zhuān)用超純水設備采用的第一種工藝主要使用離子交換樹(shù)脂，優(yōu)點(diǎn)顯示在投入資金少，占用的地方不是很大，但缺點(diǎn)也非常明顯，必須經(jīng)常進(jìn)行再生，對環(huán)境有一定的破壞。

2、第二種工藝使用反滲透技術(shù)作為預處理裝置技術(shù)，這個(gè)工藝缺點(diǎn)比上一種工藝還要嚴重，初期的投入資金比上一種高出很多，唯一的優(yōu)點(diǎn)就是EDI電子專(zhuān)用超純水設備再生時(shí)間間隔相對要長(cháng)，對環(huán)境同樣有一定污染性。

3、、第三種工藝同樣是采用反滲透作裝置作為預處理設備，第三種方法這是現如今制取超純水最經(jīng)濟、最環(huán)保用來(lái)制取超純水工藝，不必進(jìn)行設備再生處理，并且周?chē)h(huán)境基本無(wú)污染。但是其缺點(diǎn)在于資金投入方面相對以上兩種方式還是過(guò)于高。

五．EDI設備的污染判斷及清洗方法

雖然EDI膜塊的進(jìn)水條件在很大的程度上減少了膜塊內部阻塞的機會(huì )，但是隨著(zhù)設備運行時(shí)間的延展，EDI膜塊內部水道還是有可能產(chǎn)生阻塞，這主要是EDI進(jìn)水中含有較多的溶質(zhì)，在濃水室中形成鹽的沉淀。如果進(jìn)水中含有大量的鈣鎂離子（硬度超過(guò)0.8ppm）、CO2和較高的 PH 值，將會(huì )加快沉淀的速度。遇到這種情況，我們可以通過(guò)化學(xué)清洗的方法對EDI膜塊進(jìn)行清洗，使之恢復到原來(lái)的技術(shù)特性。

通常判斷 EDI 膜塊被污染堵塞可以從以下幾個(gè)方面進(jìn)行評估判定：

1、在進(jìn)水溫度、流量不變的情況下，進(jìn)水側與產(chǎn)水側的壓差比原始數據升高 45%。

2、在進(jìn)水溫度、流量不變的情況下，濃水進(jìn)水側與濃水排水側的壓差比原始數據升高45%。

3、在進(jìn)水溫度、流量及電導率不變的情況下，產(chǎn)水水質(zhì)（電阻率）明顯下降。

4、在進(jìn)水溫度、流量不變的情況下，濃水排水流量下降35%。

膜塊堵塞的原因主要有下面幾種形式：

1、顆粒/膠體污堵

2、無(wú)機物污堵

3、有機物污堵

4、微生物污堵

EDI 清洗注意：在清洗或消毒之前請先選擇合適的化學(xué)藥劑并熟悉安全操作規程，切不可在組件電源沒(méi)有切斷的狀態(tài)下進(jìn)行化學(xué)清洗。